Ausbildung zum/zur Mikrotechnologe / Mikrotechnologin Halbleitertechnik, Mikrosystemtechnik

Auszug der Stellenbeschreibung

Ausbildung zum/zur Mikrotechnologe / Mikrotechnologin Halbleitertechnik, Mikrosystemtechnik Anzeige vom 06.12.2016 Anzahl 3 Ausbildungsform sonstige Ausbildung Ausbildungsberuf Mikrotechnologe / Mikrotechnologin Halbleitertechnik, Mikrosystemtechnik Ausbildungsbeginn 01.09.2017 Ausbildungsdauer 3 Jahre Ausbildungsort 12489 Berlin (Berlin) Schulabschluss Realschulabschluss Beschreibung Das Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH) ist eines der international führenden Institute für angewandte Forschung in der Mikrowellentechnik und Optoelektronik. Auf der Basis von III/V-Verbindungshalbleitern realisiert das FBH Höchstfrequenz-Bauelemente und Schaltungen sowie leistungsstarke und hochbrillante Diodenlaser für vielfältige Anwendungen:
von Mobilkommunikation, Sensorik, Displaytechnologie und Medizintechnik bis hin zum Einsatz im Weltraum. Für das Ausbildungsjahr 2017 bietet das FBH drei Ausbildungsplätze:
Mikrotechnologe/Mikrotechnologin Schwerpunkt Halbleitertechnik - Kennziffer 18/2016. Voraussetzungen:
ausgeprägtes Interesse an Naturwissenschaft und Technik, mittlerer Schulabschluss bzw. Abitur mit guten Noten in Mathematik, Naturwissenschaften und Englisch. Zu Ihren Stärken sollten Lernbereitschaft, Teamfähigkeit, Fleiß und Disziplin gehören. Gute Augen und eine ruhige Hand sind von Vorteil. Wir bieten ein professionelles und kollegiales Arbeitsumfeld sowie gute Aufstiegs- und Fortbildungsmöglichkeiten. Ausbildung:
Die Ausbildung dauert 3 Jahre und kann bei guten Leistungen um ein halbes Jahr verkürzt werden. Die nötige Praxis wird dem/der Mikrotechnologen/-in am Institut, der theoretische Hintergrund an der Berufsschule vermittelt. Mehr Informationen zum Berufsbild finden Sie auf www.fbh-berlin.de/karriere/auszubildende. Die Höhe der Vergütung, die Dauer des Urlaubs und sonstige Sozialleistungen richten sich nach dem Tarifvertrag des öffentlichen Dienstes (TVAöD). Für weibliche und männliche Bewerber besteht Chancengleichheit. Schwerbehinderte werden bei gleicher Eignung bevorzugt. Die Bewerbungsunterlagen mit Motivationsschreiben, Zeugnissen, tabellarischem Lebenslauf sowie Praktikumsnachweisen (wenn vorhanden) senden Sie bitte spätestens bis zum 31.03.2017 an:
Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik Personalabteilung, Frau Birgit Stremlow E-Mail:
bewerbung@fbh-berlin.de Gustav-Kirchhoff-Straße 4, 12489 Berlin Bewerbungsart per Email Bewerbungsunterlagen Motivationsschreiben, Zeugnisse, tabellarischer Lebenslauf Bewerbungsschluß 05.03.2017 Ausbilder:
Ferdinand-Braun-Institut Adresse Ferdinand-Braun-Institut Gustav-Kirchhoff-Str. 4 12489 Berlin (Berlin) Ansprechpartner Frau Birgit Stremlow Telefon 030 6392 2604 Fax Email birgit.stremlow@fbh-berlin.de Web Portfolio weitere Informationen zum Ausbilder » Seite 1 von 1

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Ferdinand-Braun-Institut

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Art der Ausbildung

Duale Ausbildung
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